半导体专用反渗透设备主要功能

半导体专用反渗透设备工艺流程

     1、反渗透水处理设备选用离子交换办法，其流程如下

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

　　2、半导体专用反渗透设备选用两级反渗透办法，其流程如下

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→榜首级反渗透→PH调理→中心水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

　　3、半导体专用反渗透设备选用EDI办法，其流程如下

　　原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中心水箱→中心水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

半导体专用反渗透设备主要功能

　　1、反渗透水处理设备配有在线的表面，可随时监督设备的工作，以确保设备处于最好的情况。

　　2、半导体专用反渗透设备具有过热保护功用。当设备的负载逾越设定值时，设备会自动掉电以保护悉数设备。

　　3、设备设有高低压保护功用。如泵进口压力过低则会构成汽蚀，对泵构成严重的损坏。如泵出口压力过高则会对反渗透膜构成机械损坏。本设备设有自动保护装置，当出现上述情况时，设备会自动停机。

　　4、半导体专用反渗透设备装有各种指示灯。能够指示设备当时的工作情况，当设备出现各种倒霉情况时，例如：泵进口低压，泵出口高压等情况，设备能够及时反映，提示操作人员调整各项参数。